센사이 글리콜 산 각질 제거 마스크

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Sensai Glycolic Acid 각질 제거 마스크는 최대한의 피부 관리 혜택을 얻는 데 도움이되는 독특한 제품입니다. 글리콜 산, 인삼 추출물, 페릴라 및 기타 귀중한 성분을 포함한 특수한 공식은 피부의 깊은 클렌징, 각질 제거 및 수화를 제공합니다.

• 재료:

향수 (향료), 가수 분해 실크, 카올린, 리모넨, 리날로 올, Panax 인삼 뿌리 추출물, PEG-20, PEG-400, ocimoides perilla 잎 추출물, 글리세린, 비누 퀼라야 껍질 추출물, 나트륨 EDTA, 살리실산, 나트륨 점토, 이산화물 티타늄, 물 (아쿠아), 부틸렌 글리콜, 셀룰로오스, 구연산.

이 마스크는 피부를 항상 신선하고 잘 정리할 수 있도록 매주 사용하기에 적합합니다. 일반 스킨 케어 루틴에 Sensai 각질 제거 마스크를 추가하고 완벽한 결과를 즐기십시오.